仪器名称: |
薄膜分析系统 |
仪器型号: |
NKD-8000 |
生产厂家: |
英国AQUILA公司 |
投入日期: |
2012-12-19 |
管理人员: |
关荣锋 |
电话: |
18762383661 |
配置及技术参数: |
光谱范围 |
350nm—1000nm |
数据采集时间 |
2—10分钟,这取决于光谱范围和不同选 |
数据分析时间 |
5秒—5分钟,取决于数据的复杂程度 |
光谱分辨率 |
1nm或2nm(可选) |
光源 |
高稳态100W石英钨卤灯 |
样品尺寸 |
10×10mm到200×250mm标准系统,100mm直径样品的扫描台 |
层数 |
至多5层,两个未知参数 |
薄膜厚度范围 |
1nm到25um,取决于角度、偏振和波长;1nm需要增加椭偏模块 |
基片 |
透明、半透明或半吸收或半导体 |
材料 |
电介质、高聚物、半导体和金属 |
精确度 |
对于半吸收薄膜典型最大 |
薄膜厚度 折射率 消光系数 对于金属薄膜 薄膜厚度 折射率 消光系数 |
<1% |
<3% |
<0.1% |
<1% |
<1% |
<3% |
|
<1% |
<3% |
<1% |
<3% |
<1% |
<3% |
重现性 |
透射率 反射率 折射系数 |
<0.01% |
<0.1% |
<0.01% |
<1% |
<0.01% |
<0.1% |
入射光角度 |
30°、50°或70°(标准单元)或由客户指定的从20°到70°连续可变(可变角版本)或3个位置角度 |
样品上的光斑尺寸 |
5mm(标准系统),250um(选件) |
电源 |
220V,50Hz,2A或110V,60Hz,3A |
外观尺寸 |
890×540×720mm |
仪器用途: |
测量多层薄膜的光学性能,对多层薄膜和基片的n、k和d进行测量。 |