仪器型号：

NKD-8000

生产厂家：

英国AQUILA公司

投入日期：

2012-12-19

管理人员：

关荣锋

电话：

18762383661

配置及技术参数：

光谱范围

350nm—1000nm

数据采集时间

2—10分钟，这取决于光谱范围和不同选

数据分析时间

5秒—5分钟，取决于数据的复杂程度

光谱分辨率

1nm或2nm（可选）

光源

高稳态100W石英钨卤灯

样品尺寸

10×10mm到200×250mm标准系统,100mm直径样品的扫描台

层数

至多5层，两个未知参数

薄膜厚度范围

1nm到25um，取决于角度、偏振和波长；1nm需要增加椭偏模块

基片

透明、半透明或半吸收或半导体

材料

电介质、高聚物、半导体和金属

精确度

对于半吸收薄膜典型最大

薄膜厚度

折射率

消光系数

对于金属薄膜

薄膜厚度

折射率

消光系数

＜1%

＜3%

＜0.1%

＜1%

＜1%

＜3%

＜1%

＜3%

＜1%

＜3%

＜1%

＜3%

重现性

透射率

反射率

折射系数

＜0.01%

＜0.1%

＜0.01%

＜1%

＜0.01%

＜0.1%

入射光角度

30°、50°或70°（标准单元）或由客户指定的从20°到70°连续可变（可变角版本）或3个位置角度

样品上的光斑尺寸

5mm(标准系统)，250um（选件）

电源

220V，50Hz，2A或110V，60Hz，3A

外观尺寸

890×540×720mm

仪器用途：

测量多层薄膜的光学性能，对多层薄膜和基片的n、k和d进行测量。