薄膜分析系统
作者:张文惠  文章来源:  点击数:  发布时间:2021-03-21 11:21:45
 

仪器名称:

薄膜分析系统

仪器型号:

NKD-8000

生产厂家:

英国AQUILA公司

投入日期:

2012-12-19

管理人员:

关荣锋

电话:

18762383661

配置及技术参数:

光谱范围

350nm—1000nm

数据采集时间

2—10分钟,这取决于光谱范围和不同选

数据分析时间

5秒—5分钟,取决于数据的复杂程度

光谱分辨率

1nm或2nm(可选)

光源

高稳态100W石英钨卤灯

样品尺寸

10×10mm到200×250mm标准系统,100mm直径样品的扫描台

层数

至多5层,两个未知参数

薄膜厚度范围

1nm到25um,取决于角度、偏振和波长;1nm需要增加椭偏模块

基片

透明、半透明或半吸收或半导体

材料

电介质、高聚物、半导体和金属

精确度

对于半吸收薄膜典型最大

薄膜厚度

折射率

消光系数

对于金属薄膜

薄膜厚度

折射率

消光系数

<1%

<3%

<0.1%

<1%

<1%

<3%


<1%

<3%

<1%

<3%

<1%

<3%

重现性

透射率

反射率

折射系数

<0.01%

<0.1%

<0.01%

<1%

<0.01%

<0.1%

入射光角度

30°、50°或70°(标准单元)或由客户指定的从20°到70°连续可变(可变角版本)或3个位置角度

样品上的光斑尺寸

5mm(标准系统),250um(选件)

电源

220V,50Hz,2A或110V,60Hz,3A

外观尺寸

890×540×720mm

仪器用途:

测量多层薄膜的光学性能,对多层薄膜和基片的n、k和d进行测量。

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