仪器型号：

JGP560

生产厂家：

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

投入日期：

2012-12-17

管理人员：

关荣锋

电话：

18762383661

配置及技术参数：

极限真空度

≤6.67X10^-6Pa

40分钟可达到6.6x10^-4Pa

磁控溅射靶

2英寸x5套

直流溅射电源

500Wx3套

样品尺寸

φ30mmx6片

样品温度

600℃

分子泵系统

1套

薄膜压力真空规

1套

冷却水路系统

1套

仪器用途：

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研制备。