双室超高真空多功能溅射系统
作者:张文惠  文章来源:  点击数:  发布时间:2021-03-21 11:35:03
 

仪器名称:

双室超高真空多功能溅射系统

仪器型号:

JGP560

生产厂家:

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

投入日期:

2012-12-17

管理人员:

关荣锋

电话:

18762383661

配置及技术参数:

极限真空度

≤6.67X10-6Pa

40分钟可达到6.6x10-4Pa

磁控溅射靶

2英寸x5套

直流溅射电源

500Wx3套

样品尺寸

φ30mmx6片

样品温度

600℃

分子泵系统

1套

薄膜压力真空规

1套

冷却水路系统

1套

仪器用途:

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研制备。


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